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激光橢偏儀 多入射角測量儀

更新時間:2023-11-03

訪問量:1411

廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家

生產(chǎn)地址:北京

簡要描述:
BX-G103激光橢偏儀 多入射角測量儀是針對高-端研發(fā)和質(zhì)量控制領(lǐng)域推出的極-致型多入射角激光橢偏儀。 BX-G103系列可在單入射角度或多入射角度下對樣品進行準確測量??捎糜跍y量單層或多層納米薄膜樣品的膜層厚度、折射率n和消光系數(shù)k;也可用于同時測量塊狀材料的折射率n和消光系數(shù)k;亦可用于實時測量納米薄膜動態(tài)生長中膜層的厚度、折射率n和消光系數(shù)k。多入射角度設(shè)計實現(xiàn)了納米薄膜的絕對厚度測量。
品牌其他品牌價格區(qū)間面議
產(chǎn)地類別國產(chǎn)應(yīng)用領(lǐng)域環(huán)保,化工,石油,地礦,綜合

關(guān)鍵詞:激光橢偏儀 多入射角測量儀

激光測量儀   橢偏儀光源   橢偏儀   橢偏儀設(shè)備   激光測高儀精度

G103.jpg

產(chǎn)品用途

   BX-G103激光橢偏儀 多入射角測量儀是針對高-端研發(fā)和質(zhì)量控制領(lǐng)域推出的極-致型多入射角激光橢偏儀。 BX-G103系列可在單入射角度或多入射角度下對樣品進行準確測量??捎糜跍y量單層或多層納米薄膜樣品的膜層厚度、折射率n和消光系數(shù)k;也可用于同時測量塊狀材料的折射率n和消光系數(shù)k;亦可用于實時測量納米薄膜動態(tài)生長中膜層的厚度、折射率n和消光系數(shù)k。多入射角度設(shè)計實現(xiàn)了納米薄膜的絕對厚度測量。

儀器特點:

l /*的測量方法:Delta測量范圍0-360o,無測量死角問題(即使在0o或180o附近時也具有極-高的準確度),也可消除粗糙表面引起的消偏振效應(yīng)對結(jié)果的影響

原子層量級的極-高靈敏度和準確度:國、際、先、進的采樣方法、高穩(wěn)定的核心器件、高質(zhì)量的制造工藝實現(xiàn)并保證了極-高的準確度和穩(wěn)定性

百毫秒量級的快速測量:在保證極-高精度和準確度的同時,可在幾百毫秒內(nèi)快速完成一次測量,可滿足快速多點檢測和批量檢測需求

精準方便的樣品對準:視頻式自準直樣品方位精密對準系統(tǒng),精度高、操作方便

簡單方便的儀器操作:一鍵操作即可完成復(fù)雜的樣品測量和分析;按照質(zhì)控要求進行數(shù)據(jù)多種導(dǎo)出;豐富的模型庫和材料庫方便用戶的高級操作;管理員/操作員不同的模式,保證儀器安全

技術(shù)參數(shù):

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